In der Jury-Begründung würdigte Thomas Doppelberger, dass das Nexwafe-Verfahren ein strukturelles Problem der Photovoltaik-Branche auf Basis von Fraunhofer-Technologie gelöst habe und einer ganzen Industrie neue Perspektiven eröffne.

Spin-off Nexwafe: Gewinnt Fraunhofer Gründerpreis 2020 für Epiwafer-Verfahren

(FI/Venture)  Mit einem neuartigen Verfahren zur preiswerten und ressourcenschonenden Herstellung von Silizium-Wafern für Photovoltaik-Anlagen gewinnt die Fraunhofer-Ausgründung Nexwafe GmbH in Freiburg den mit 5000 Euro dotierten Fraunhofer-Gründerpreis 2020. Mit dem von Nexwafe entwickelten Epiwafer-Verfahren wird eine kristalline Siliziumschicht direkt auf einen Saatwafer abgeschieden und dann abgelöst. Mit dieser neuartigen Technologie kann jede gewünschte Waferdicke zu einem Bruchteil des bisher notwendigen Energie-, Material- und Kapitalaufwands hergestellt werden.


Die Herstellungskosten für Photovoltaik-Wafer werden durch das neuartige Verfahren im Vergleich zum herkömmlichen Kristallwachstum um 50 % und die in der Herstellung erzeugten CO2-Emissionen um 70 % reduziert. Die signifikanten Kostenvorteile, die durch die Nexwafe-Technologie erzielt werden können, schaffen vor allem für die technologienahen Unternehmen am Standort Deutschland eine neue Zukunftsperspektive in der Produktion von Solarzellen.

5-MW-Pilotlinie geht in Betrieb
Die Nexwafe GmbH beliefert Solarzellenhersteller mit hochwertigen monokristallinen Siliziumwafern, die vollständig kompatibel mit den Standardprozessen der Zell- und Modulherstellung sind. Das Unternehmen nimmt aktuell eine 5-MW-Pilotlinie in Freiburg in Betrieb und plant, im ersten Halbjahr 2021 Kunden zur Qualifizierung zu beliefern.

Nexwafe wurde 2015 von Stefan Reber, Abteilungsleiter für Kristalline Silicium-Materialien am Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE, und Frank Siebke, einem erfahrenen Experten und Unternehmer im Solarenergie-Sektor gegründet. Seit September 2020 ergänzt Davor Sutija, Mehrfach-Gründer im internationalen Energie- und Technologie-Sektor, das Management-Team von Nexwafe als CEO. Die kostenintensive Frühphase der nächsten Generation der Wafer-Produktion wurde vom Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE und Fraunhofer als Seed-Investoren finanziert. Weitere Beteiligungen aus Deutschland, der Schweiz und Saudi-Arabien sicherten die Weiterentwicklung und den Wachstumskurs des Unternehmens.

Spitzentechnologie als Standortvorteil
In der Jury-Begründung würdigte Thomas Doppelberger, Leiter von Fraunhofer Venture, besonders, dass das Nexwafe-Verfahren ein strukturelles Problem der Photovoltaik-Branche auf Basis von Fraunhofer-Technologie gelöst habe und einer ganzen Industrie neue Perspektiven eröffne: »Das Kerfless-Wafer-Verfahren von Nexwafe hat das Potenzial, den Wettbewerb in der Photovoltaik-Industrie weltweit von niedrigen Herstellungskosten hin zu den innovativen Technologien zu verlagern. Nexwafe zeigt, dass der Technologie-Vorsprung durch Forschung ein entscheidender Faktor für die Zukunft des Standorts Deutschland sein kann und ist damit Vorbild für Ausgründungen aus der Wissenschaft.«

Text: Fraunhofer Venture

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